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光刻胶

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紫外负性光刻胶 - 湿法工艺

品牌

产地

型号

曝光

应用

特性

对生产量的影响

Futurrex

美国

NP9–250P

i线曝光用粘度增强负胶系列

在设计制造中替代基于聚异戊二烯双叠氮（Polyioprene-Bisazide）的负胶。

在湿刻和电镀应用时超强的粘附力；很容易用去胶液去除。单次旋涂厚度范围如下：﹤0.1～200 μm可在i、g以及h-line波长曝光

避免了基于有机溶剂的显影和冲洗过优于传统正胶的优势：控制表面形貌的优异线宽任意甩胶厚度都可得到笔直的侧壁
单次旋涂即可获得200 μm胶厚
厚胶同样可得到优越的分辨率
150 ℃软烘烤的应用可缩短烘烤时间
优异的感光度进而增加曝光通量
更快的显影，100 μm的光刻胶显影仅需6 ～ 8分钟光刻胶曝光时不会出现气泡
可将一种显影液同时应用于负胶和正胶
不必使用增粘剂如HMDS

NP9–1000P

NP9–1500P

NP9–3000P

NP9–6000P

NP9–8000

NP9–8000P

NP9–20000P

NP9G–250P

g和h线曝光用粘度增强负胶系列

NP9G–1000P

NP9G–1500P

NP9G–3000P

NP9G–6000P

NP9G–8000

Micro Resist

德国

ma-N 400

宽带或i线曝光

0.5 ～ 20 μm胶厚

非常适合作为刻蚀掩模，极好的抗干刻、湿刻性能；优异地利用PVD和lift-off加工进行图案转移能力；优异的电镀性能（酸和碱性镀液中极高的稳定性）；光刻胶图案良好的热稳定性；碱性水溶液下显影；

品牌

产地

型号

甩胶范围

应用

GES

瑞士

GM1010

0.2 - 0.8 μm

可用于甩胶和喷涂

GM1040

0.8 - 10 µm

可用于甩胶、喷涂和喷墨打印

GM1050

3 - 8 µm

可用于甩胶和喷墨打印

GM1060

10 - 50 µm

可用于甩胶和喷墨打印

GM1070

50 - 250 µm

可用于甩胶和喷墨打印

GM1075

250 - 350 µm

可用于甩胶和喷墨打印

紫外负性光刻胶 - 干刻工艺

品牌

产地

型号

曝光　

应用

特性

优于正胶的优势

Futurrex

美国

NR71-250P

i线曝光的高级
加工负胶系列

替代用
于RIE
加工及
离子植
入的正胶

     在RIE加工时优异
     的选择性以及在离
     子注入时优异的高
     温耐受能力

     厚度范围：﹤0.1～
   200μm
     可在i、g以及h-line
     波长曝光

控制表面形貌的优异线宽
任意甩胶厚度都可得到笔直的侧壁
单次旋涂即可获得200 μm胶厚
厚胶同样可得到优越的分辨率
150 ℃软烘烤的应用可缩短烘烤时间
优异的感光度进而增加曝光通量
更快的显影，100 μm的光刻胶显影仅需6 ～ 8分钟
光刻胶曝光时不会出现气泡
可将一种显影液同时应用于负胶和正胶
优异的温度阻抗直至180 ℃
在反应离子束刻蚀或离子减薄时非常容易地增加能量密度，从而提高刻蚀速度和刻蚀通量
非常容易进行高能量离子注入
不必使用增粘剂如HMDS

NR71-350P

NR71-1000P

NR71-1500P

NR71-3000P

NR71-6000P

NR5-8000

NR71G-250P

g和h线曝光的高
级加工负胶系列

NR71G-350P

NR71G-1000P

NR71G-1500P

NR71G-3000P

NR71G-6000P

NR5G-8000

Micro Resist

德国

ma-N1400

宽带或
i线曝光

0.5～ 20μm胶厚

非常适合作为刻蚀掩模，极好的抗干刻、湿刻性能；优异地利用PVD和lift-off加工进行图案转移能力；优异的电镀性能（酸和碱性镀液中极高的稳定性）；光刻胶图案良好的热稳定性；碱性水溶液下显影；

紫外负性光刻胶 - lift-off工艺

品牌

产地

型号

厚度

曝光

应用

加工

特性

Futurrex

美国

NR71-1000PY

0.7μm~2.1μm

高温耐受

用于i线曝光的负胶

LEDOLED、

显示器、

MEMS、

封装、

生物芯片等

    金属和介电
    质上图案化，
    不必使用RIE
    加工器件的永
    久性组成
   （OLED显示
    器上的间隔
    区）凸点、
    互连、空中
    连接微通道

显影时形成光刻胶倒
梯形结构

厚度范围：
0.5～20.0 μm

i、g和h线曝光波长
曝光

对生产效率的影响：

金属和介电质图案化
时省去干法刻蚀加工

不需要双层胶技术

NR71-1500PY

1.3μm~3.1μm

NR71-3000PY

2.8μm～6.3μm

NR71-6000PY

5.7μm~12.2μm

NR9-100PY

0.7μm~2.1μm

粘度增强

NR9-1500PY

1.3μm~3.1μm

NR9-3000PY

2.8μm~6.3μm

NR9-6000PY

5.7μm~12.2μm

NR71G-1000PY

0.7μm~2.1μm

高温耐受

负胶对 g、h线波长的灵敏度

NR71G-1500PY

1.3μm~3.1μm

NR71G-3000PY

2.8μm~6.3μm

NR71G-6000PY

5.7μm~12.2μm

NR9G-100PY

0.7μm～2.1μm

粘度增强

NR9G-1500PY

1.3μm～3.1μm

NR9G-3000PY

2.8μm～6.3μm

NR9G-6000PY

5.7μm~12.2μm

Micro Resist

德国

ma-N 400

宽带或
i线曝光

0.5～20μm胶厚

非常适合作为刻蚀掩模，极好的抗干刻、湿刻性能；优异地利用PVD和lift-off加工进行图案转移能力；优异的电镀性能（酸和碱性镀液中极高的稳定性）；光刻胶图案良好的热稳定性；碱性水溶液下显影；

ma-N 1400

品牌

产地

型号

甩胶范围

应用

GES

瑞士

GM1010

0.2 - 0.8 μm

可用于甩胶和喷涂

GM1040

0.8 - 10 µm

可用于甩胶、喷涂和喷墨打印

GM1050

3 - 8 µm

可用于甩胶和喷墨打印

GM1060

10 - 50 µm

可用于甩胶和喷墨打印

GM1070

50 - 250 µm

可用于甩胶和喷墨打印

GM1075

250 - 350 µm

可用于甩胶和喷墨打印

注：如在产品介绍中未能发现合适的产品或需要更详细的技术信息，敬请联系我们！