mr-DWL光刻胶的特点: 

专门设计用于400 nm以上曝光波长

405 nm直写激光如二极管激光（DWL 66F5）

高灵敏度;  优异的热稳定性及化学稳定性;

极高的湿法和干法蚀刻稳定性;

mr-DWL光刻胶的应用领域:

通过激光直写快速并且非接触的制作原型;

微系统技术领域的光学方面应用;

湿法和干法蚀刻工艺中的蚀刻掩模

电镀模具; 热或紫外方式制作模板的模具

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