水性光刻胶
作者:管理员    发布于:2016-08-22 12:17:56    文字:【】【】【
摘要:随着环境保护的意识逐渐增强,政府对各行业污染物处理、污水排放的要求日益提高,半导体、LED、MEMS等行业也不例外。因此有效地降低生产过程中的废物产生显得尤为重要。

美国Futurrex公司新近开发了一款水性光刻胶,它的溶剂是水,可以用水显影及去胶。除了光刻胶本身不必使用有机物作为溶剂之外,显然可以减少光刻工艺中大量有害的、难处理的有机物如PGMEANMP、异丙醇、丙酮等使用。这简化了废物处理工艺,既节省了生产成本、也能极大地减少对环境的污染。

详细产品信息请联系我公司。

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