美国Futurrex公司新近开发了一款水性光刻胶，它的溶剂是水，可以用水显影及去胶。除了光刻胶本身不必使用有机物作为溶剂之外，显然可以减少光刻工艺中大量有害的、难处理的有机物如PGMEA、NMP、异丙醇、丙酮等使用。这简化了废物处理工艺，既节省了生产成本、也能极大地减少对环境的污染。

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